【英特爾與產綜研將在日本設立開發基地】英特爾與日本產綜研將設立的是最尖端半導體制造設備和材料的研發基地。新基地計劃3~5年後成立，將在日本研究機構中首次引進極紫外線光刻設備。隨著日本國內技術開發基地增加，日本的設備、材料等廠商掌握最尖端技術的機會將增加……

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