【日經BP精選：佳能半導體奈米壓印技術的真正實力】佳能奈米壓印光刻（NIL）裝置成功實現了商業化，可用於製造5奈米級半導體，並且耗電量只有ASML公司EUV曝光裝置的十分之一。此外，裝置結構也很簡單，因此雖未公佈詳細的價格，但比EUV曝光裝置的價格要便宜……
【日經BP精選：佳能半導體奈米壓印技術的真正實力】佳能奈米壓印光刻（NIL）裝置成功實現了商業化，可用於製造5奈米級半導體，並且耗電量只有ASML公司EUV曝光裝置的十分之一。此外，裝置結構也很簡單，因此雖未公佈詳細的價格，但比EUV曝光裝置的價格要便宜……
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